鎂及合金的蝕刻加工方法如下：
Mg是一種非常活潑的金屬，能與多種酸發(fā)生反應(yīng)，其中以H2S04為基的腐蝕液較容易控制，已廣泛地用于化學蝕刻航空零件，其反應(yīng)式如下:
Mg H2 S04~ M蟒04 H2t(5一78)
在理論上，根據(jù)反應(yīng)(5一78)，每蝕刻1gMg需要4 g H2 S04。但是，實際上每蝕刻lgMg需要17g HI S04，這與腐蝕鋁的化學腐蝕液一樣，為了降低腐蝕液中MgS04的含量而需要排出部分槽液，會損失大量的H2SO4.

當H2S04作為腐蝕劑單獨使用時，靠添加緩蝕劑的方法就能更好地控制蝕刻速率，得到更低的表面粗糙度，以形成更好的內(nèi)圓角。Nat SO4、檸檬酸鈉和潤濕劑組成了一種合適的緩蝕劑，把這種緩蝕劑加入H2SO。中，就可以制成腐蝕液，使用這種腐蝕液進行化學蝕刻時，很容易獲得關(guān)鍵的效果，如平滑的表面和均勻的蝕刻速率。

溫度的變化能明顯改變蝕刻速度，所以在實際生產(chǎn)中可以通過改變蝕刻溫度來控制蝕刻速度。
Mg的化學蝕刻是一種強烈的放熱反應(yīng)。將i g mg溶解在H2 Sad中，會釋放出19562.4)的熱量，而等量的Al在NaOH中的腐蝕放出的熱量為16243. 48j,, Mg的導(dǎo)熱性比Al差，因此，控制Mg的化學蝕刻比控制Al的化學蝕刻更加困難，必須在較低溫度下進行化學蝕刻。同時，必須仔細控制腐蝕液的溫度和H2 S04的濃度，以免產(chǎn)生粗糙的表面和其他異常情況。
Mg的化學蝕刻除可以采用H2 S04外，HNO，或H3 P04都可以作化學蝕刻的腐蝕劑。

表5-25綜合了目前用于Mg的幾種腐蝕液。



相關(guān)建材詞條解釋：

蝕刻

通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工；經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

Mg

左上為MG汽車的標志，右上是一款1955年的MG跑車，左下是一款1930年的MG跑車，右下是一款1955年的MG跑車。

腐蝕

金屬材料以及由它們制成的結(jié)構(gòu)物，在自然環(huán)境中或者在工況條件下，由于與其所處環(huán)境介質(zhì)發(fā)生化學或者電化學作用而引起的變質(zhì)和破壞，這種現(xiàn)象稱為腐蝕，其中也包括上述因素與力學因素或者生物因素的共同作用。某些物理作用例如金屬材料在某些液態(tài)金屬中的物理溶解現(xiàn)象也可以歸入金屬腐蝕范疇。一般而言，生銹專指鋼鐵和鐵基合金而言，它們在氧和水的作用下形成了主要由含水氧化鐵組成的腐蝕產(chǎn)物鐵銹。有色金屬及其合金可以發(fā)生腐蝕但并不生銹，而是形成與鐵銹相似的腐蝕產(chǎn)物，如銅和銅合金表面的銅綠，偶爾也被人稱作銅銹。關(guān)于腐蝕和金屬腐蝕還有一些其他形式的定義。由于金屬和合金遭受腐蝕后又回復(fù)到了礦石的化合物狀態(tài)，所以金屬腐蝕也可以說是冶煉過程的逆過程。上述定義不僅適用于金屬材料，也可以廣義地適用于塑料、陶瓷、混凝土和木材等非金屬材料。例如，涂料和橡膠由于陽光或者化學物質(zhì)的作用引起變質(zhì)，煉鋼爐襯的熔化以及一種金屬被另一種金屬熔融液態(tài)金屬腐蝕，這些過程的結(jié)果都屬于材料腐蝕，這是一種廣義的定義。金屬及其合金至今仍然被公認為是最重要的結(jié)構(gòu)材料，所以金屬腐蝕自然成為最引人注意的問題之一。腐蝕破壞的形式種類很多，在不同環(huán)境條件下引起金屬腐蝕的原因不盡相同，而且影響因素也非常復(fù)雜。為了防止和減緩腐蝕破壞及其損傷，通過改變某些作用條件和影響因素而阻斷和控制腐蝕過程，由此所發(fā)展的方法、技術(shù)及相應(yīng)的工程實施成為防腐蝕工程技術(shù)。